咨询电话:029-85643484
您现在的位置是:首页>技术服务>应用案例>PMT-2 在光刻胶粒子监测中的作用

PMT-2 在光刻胶粒子监测中的作用

来源:本站
发布时间:2022-03-18
关键词:
光刻胶粒子检测仪
光刻胶检测系统
光刻胶颗粒计数器
粒子监测
光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展,更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。1954年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工业的,以后才用于电子工业。光刻胶是一种有机化合物,它被紫外光曝光后,在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面,而后被干燥成胶膜。

PMT-2 在光刻胶粒子监测中的作用

光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展,更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域。1954年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工业的,以后才用于电子工业。光刻胶是一种有机化合物,它被紫外光曝光后,在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面,而后被干燥成胶膜。

为了避免光刻胶线条的倒塌,线宽越小的光刻工艺,就要求光刻胶的厚度越薄。在20nm技术节点,光刻胶的厚度已经减少到了100nm左右。但是薄光刻胶不能有效的阻挡等离子体对衬底的刻蚀 。为此,研发了含Si的光刻胶,这种含Si光刻胶被旋涂在一层较厚的聚合物材料(常被称作Underlayer),其对光是不敏感的。曝光显影后,利用氧等离子体刻蚀,把光刻胶上的图形转移到Underlayer上,在氧等离子体刻蚀条件下,含Si的光刻胶刻蚀速率远小于Underlayer,具有较高的刻蚀选择性 。

在这种情况下,光刻胶的颗粒管控就显得尤为重要。PMT-2在光刻胶应用中一般常用0.06-0.2um和0.1-0.5um,这两个检测范围。普洛帝测控给某院某部门提供了成套的光刻胶检测系统。本系统已经应用到实际监测中,并良好运转。


热门产品

PQ-2A自动铁量仪
PQ-2A自动铁量仪
品牌:卡尔德/CALDEE
型号:PQ-2A
关键词: 自动铁量仪普洛帝
超声波振荡器
超声波振荡器
品牌:普洛帝/PULUODY
型号:PS3100
防静电采样绳
防静电采样绳
品牌:普洛帝/PULUODY
型号:pull
P-LIMS 2.0油液监测管理系统
P-LIMS 2.0油液监测管理系统
品牌:普洛帝/PULUODY
型号:P-LIMS 2.0
台式液体颗粒计数器
台式液体颗粒计数器
品牌:普洛帝/PULUODY
型号:OPC-1800

热点新闻

版权所有©普洛帝测控技术有限公司 陕ICP备09007809号
x
如联系详情,请咨询热线:029-85643484